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High Power Laser Science And Engineering

高功率激光科學(xué)與工程
國(guó)際簡(jiǎn)稱:HIGH POWER LASER SCI

High Power Laser Science And Engineering

SCIE

按雜志級(jí)別劃分: 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

  • 1區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q1 JCR分區(qū)
  • 97 年發(fā)文量
  • 93.81% 研究類文章占比
  • 99.04% Gold OA文章占比
ISSN:2095-4719
創(chuàng)刊時(shí)間:2013
是否預(yù)警:否
E-ISSN:2052-3289
出版地區(qū):United Kingdom
是否OA:開(kāi)放
出版語(yǔ)言:English
出版周期:12 issues/year
影響因子:5.2
出版商:Cambridge University Press
審稿周期: 21 Weeks
CiteScore:7.1
H-index:15
出版國(guó)人文章占比:0.37
開(kāi)源占比:0.9804
文章自引率:0.0416...

High Power Laser Science And Engineering雜志簡(jiǎn)介

High Power Laser Science And Engineering是由Cambridge University Press出版商主辦的物理與天體物理領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊,自2013年創(chuàng)刊以來(lái),一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)(ISSN:2095-4719,E-ISSN:2052-3289),出版周期12 issues/year,其出版地區(qū)設(shè)在United Kingdom。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)物理與天體物理專業(yè)及OPTICS學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流,發(fā)表同行有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文,提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴,激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新,開(kāi)展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流,為物理與天體物理領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.0416...,開(kāi)源內(nèi)容占比0.9804,出版撤稿占比0,OA被引用占比1,讀者群體主要包括物理與天體物理的專業(yè)人員,研究生、本科生以及物理與天體物理領(lǐng)域愛(ài)好者,這些讀者群體來(lái)自全球各地,具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。High Power Laser Science And Engineering已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE(Science Citation Index Expanded) ”收錄,方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用,有助于推動(dòng)OPTICS領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。

CiteScore(2024年最新版)

  • CiteScore:7.1
  • SJR:1.125
  • SNIP:1.933
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Energy 小類:Nuclear Energy and Engineering Q1 9 / 77

88%

大類:Energy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q1 13 / 87

85%

大類:Energy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 62 / 284

78%

大類:Energy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q1 51 / 224

77%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估,打破了過(guò)去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過(guò)綜合廣泛的引用數(shù)據(jù),跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,從而確保了更高的透明度和開(kāi)放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分,包括SNIP(源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響)、SJR(SCImago雜志排名)、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo),幫助研究者深入了解超過(guò)22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比

High Power Laser Science And Engineering中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 1區(qū) OPTICS 光學(xué) 2區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 1區(qū) OPTICS 光學(xué) 1區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) 2區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) 2區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) 2區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) OPTICS 光學(xué) 2區(qū)
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖

WOS期刊JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:OPTICS SCIE Q1 18 / 119

85.3%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:OPTICS SCIE Q1 16 / 120

87.08%

JCR(Journal Citation Reports)分區(qū),也被稱為JCR期刊分區(qū),是由湯森路透公司(現(xiàn)在屬于科睿唯安公司)制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù),按照期刊的影響因子進(jìn)行排序,按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū):Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是,JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))存在不同之處。例如,兩者的分區(qū)數(shù)量不同,JCR分為四個(gè)區(qū),而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科,每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外,兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份 年發(fā)文量
2014 0
2015 0
2016 0
2017 31
2018 66
2019 64
2020 43
2021 64
2022 44
2023 97

期刊互引關(guān)系

被他刊引用情況
期刊名稱 引用次數(shù)
HIGH POWER LASER SCI 83
OPT EXPRESS 39
PLASMA PHYS CONTR F 27
PHYS PLASMAS 24
SCI REP-UK 20
OPT LETT 19
APPL OPTICS 17
MATTER RADIAT EXTREM 12
PHYS REV D 12
PHYS REV LETT 12
引用他刊情況
期刊名稱 引用次數(shù)
OPT LETT 231
PHYS REV LETT 215
OPT EXPRESS 193
PHYS PLASMAS 154
HIGH POWER LASER SCI 83
APPL OPTICS 74
REV SCI INSTRUM 56
PHYS REV E 53
APPL PHYS LETT 51
J OPT SOC AM B 50
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